Chip-Technologie: Russland will eigene 7-nm-Produktion aufbauen - Golem.de - Golem.de

Weitgehend von den Importen moderner Auftragsfertiger abgeschnitten will Russland in wenigen Jahren eine eigene Chipfertigung aufbauen.

Russische Chip-Designs wie der Elbrus-8S sind bisher bei TSMC gefertigt worden. Das geht nun nicht mehr. (Bild: Fritzchens Fritz)

Ein russisches Forschungsinstitut will offenbar ein modernes Lithografieverfahren zur Herstellung von Mikroelektronik selbst umsetzen. Ziel sei demnach die Herstellung von Chips bis zu einer Strukturbreite von 7 nm. Entsprechende Arbeiten einer Machbarkeitsstudie hätten bereits begonnen und die Chipproduktion könne bereits 2028 aufgenommen werden. Das berichtet Tom's Hardware unter Berufung auf ein russisches IT-Magazin.

Das zugrunde liegende Strategiepapier hat das zuständige Institut für angewandte Physik der russischen Akademie der Wissenschaften in Nischni Nowgorod veröffentlicht. Demnach ist bisher keinerlei Lithografietechnik in Russland selbst hergestellt worden. Der russische Halbleiterhersteller Mikron verfügt darüber hinaus über Fertigungstechnik für 65 nm. Laut der Ankündigung reiche das für die meisten Chips, etwa im Automobilbereich. Auch deshalb stützt der russische Staat das Unternehmen massiv mit Subventionen.

Für schnelle und vor allem effiziente moderne Chips wie in Smartphones, PCs oder Servern entspricht dies aber dem Stand von 2005 und der Rest der IT-Welt hat sich deutlich weiterentwickelt. Deshalb setzte die russische IT-Industrie bisher auf eine Produktion der eigenen Designs bei Auftragsfertiger TSMC oder schlicht den Kauf und Import fertiger Chips. Seit dem Einmarsch russischer Truppen in der Ukraine ist dies wegen Sanktionen nicht mehr möglich. Eventuell könnte mit viel Aufwand auf den chinesischen Fertiger SMIC gewechselt werden. Hinzu kommt, dass selbst der Import über inoffizielle Händler aus China möglicherweise bis zu 40 Prozent kaputte Chips bringt.

Die Herstellung moderner Chips im eigenen Land könnte diese Probleme lösen. Laut dem Strategiepapier wollen die Beteiligten, statt auf das international von Industrie genutzte EUV-Verfahren zu setzen, ein komplett eigenes Lithografieverfahren mit Röntgenstrahlung entwickeln. Dazu werden neue Strahlungsquellen und komplett neue Optiken im Vergleich zu bisherigen Verfahren benötigt. Die Nutzung der Röntgenstrahlung sei dabei aber deutlich energieeffizienter als die EUV-Belichtung.

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